如之前【飛納電鏡：從飛利浦到賽默飛，是最“老"的電鏡，也是最“新"的電鏡（上篇）】的介紹，飛納電鏡繼承荷蘭飛利浦和 FEI 三倉分離和逐級抽真空設計，可以實現(xiàn) 15 秒抽真空 30 秒成像，這是目前業(yè)界高效率的臺式掃描電鏡，可謂是掃描電鏡中的“閃電俠"。

不同類型掃描電鏡操作所用時長對比圖

通過不同電鏡操作用時對比圖可知，一方面是抽真空耗時，傳統(tǒng)電鏡因為通倉的設計，載樣抽真空過程需要很長時間，至少 3 分鐘的樣子。隨著設備真正服役，真空系統(tǒng)復雜加之維護不到位，這個等待時間只會越來越久。另一方面 SEM 成像耗時，傳統(tǒng)電鏡操作界面復雜不說，自動化智能功能嚴重不足，很依賴于操作人員的熟練程度，一個小時往往能拍好 3 個樣品都算快的。

就傳統(tǒng)電鏡抽真空耗時久這一痛點，飛納電鏡是如何實現(xiàn)抽真空和成像如此之快呢？

PART1. 三倉分離真空設計

飛納電鏡從一開始就拋棄傳統(tǒng)的通倉設計，別出心裁把燈絲倉，光路倉和樣品倉“隔離"設計，燈絲倉和光路倉通過壓差光闌隔離，光路倉和樣品倉通過“真空鎖"設計隔離，渦輪分子泵分別對三倉室梯度抽真空，這樣切換樣品只破壞樣品倉真空，整個換樣過程幾乎不會引起燈絲倉的真空變化，從而保證燈絲倉真空環(huán)境一直穩(wěn)定在 10-5Pa，這也是保證晶體燈絲長壽命的前提條件。

PART2. 樣品倉設計

傳統(tǒng)電鏡樣品倉大開門或者抽屜式設計，不但會造成抽真空緩慢，而且樣品倉內(nèi)各種探測器都暴露在空氣中，樣品高度要調(diào)整，這些都需要警惕否則都會帶來巨大損失。而飛納電鏡真空鎖不單鎖住光路倉，還包括各種探測器，進樣之前樣品高度做了限高防呆設計，不存在任何誤操作得風險，大家可以安心使用。

PART3. 自動進樣設計

飛納電鏡繼承荷蘭飛利浦和 FEI 進樣逐級抽真空設計，一鍵轉(zhuǎn)移到 SEM，邊進樣邊抽真空。在樣品倉到達預定真空度前，光路倉可實現(xiàn)真空保持，而后自動加高壓，自動調(diào)焦和自動調(diào)節(jié)亮度對比度（B/C）成像，整個過程一氣呵誠，無需人工干預，從進樣到清晰成像，1min 之內(nèi)就可以自動完成。

飛納電鏡的真空系統(tǒng)設計、操作系統(tǒng)和硬件整合都是目前主流市場上做得非常好的，正是由于飛納電鏡諸多匠心設計，才成為目前市面上高效的掃描電鏡，也收獲了各種獎項！

2015  今日顯微鏡學創(chuàng)新獎

飛納熒光掃描電鏡一體機 Delphi 被授予 2015 今日顯微學創(chuàng)新獎，表彰其整合光電關(guān)聯(lián)技術(shù)的創(chuàng)新。

2009 德國設計大獎

由德國設計學會頒發(fā)的德國設計大獎是世界設計界的最高獎項之一，其以提名標準的嚴格而聞名，被譽為“桂冠中的桂冠"。

2008 GIO 工業(yè)設計獎

GIO 工業(yè)設計獎是荷蘭設計類獎項，用以表彰專業(yè)的設計技術(shù)。Phenom 飛納在 2008 年獲此殊榮，證明了其設計水平。

2008 創(chuàng)新技術(shù)獎

荷蘭 Het Instrument 展覽會期間，Phenom 飛納榮獲實驗室器材領(lǐng)域中的創(chuàng)新技術(shù)獎，再次證明了其設計理念。

2008 PTB-年度最佳產(chǎn)品

美國 Phonics Tech Briefs (PTB) 雜志授予 Phenom 飛納年度最佳產(chǎn)品。

2007 美國商務部杰出創(chuàng)新獎 

美國商務部技術(shù)管理局決定授予 Phenom 飛納杰出創(chuàng)新獎，以表彰其“帶來的全新視野，促進了科學、技術(shù)、工程等領(lǐng)域中的教學與研究。

2007 紅點設計獎

紅點設計獎?chuàng)碛?50 多年的悠久歷史，被譽為設計界中的奧斯卡，最大最尊貴的設計獎項。

 2006 荷蘭機電學大獎

因其“在機械電子領(lǐng)域中，合作研發(fā)與制造能力"榮獲荷蘭機電學大獎。

如果你還在為：

切換樣品需要頻繁抽真空而苦惱

如果你還在為：

傻傻做標記尋找樣品定位而苦惱

如果你還在為：

自動調(diào)焦總是不盡如人意而苦惱

不如來試試飛納電鏡

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一樣簡單，一樣絲滑